11月5日，世界光刻機巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產EUV(極紫外光)光刻機的企業，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機，所以此次展示的是其DUV(深紫外光)光刻機。據悉，該產品可生產7nm及以上制程芯片。
ASML此次也帶來了其整體光刻解決方案，包括先進控制能力的光刻機臺計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術，讓邊緣定位精度不斷提高。
ASML中國區總裁沈波接受媒體采訪時表示，該公司對向中國出口集成電路光刻機持開放態度，對全球客戶均一視同仁，在法律法規框架下，都將全力支持。
沈波透露，自30年前進入中國市場以來，ASML已提供了全面的技術和能力來滿足中國客戶的需求。目前在中國一共為客戶提供了700多臺裝機。在遵守法律法規的同時，ASML全力支持客戶和中國集成電路行業的發展。
ASML中國展示DUV光刻機：對向中國出口光刻機保持開放態度
被問及有沒有向中國出口EUV光刻機的打算，他表示，EUV光刻機還在等荷蘭政府的出口許可證。ASML必須要在遵守法律法規的前提下進行光刻機出口。“但我們對向中國出口光刻機是保持很開放態度的，我們對全球客戶都一視同仁，只要是我們能夠提供的技術和設備，我們都會全力支持。”
據了解，目前，市場上光刻機主要分為兩種，一種是DUV光源，另外一種是EUV光源。后者相比前者精度更高，但價格也更貴，而且目前全球只有荷蘭ASML有能力生產EUV光刻機，而且一年產量還很有限。EUV光刻機售價在1.12億歐元左右，約合人民幣將近10億。而DUV光刻機價值則是在6億左右，便宜了40%。
EUV光刻機因為光源是高能紫外線的緣故，一次曝光就可以實現芯片制造，生產效率更高，良品率也遠高于DUV光刻機，這為芯片制造商節省了許多的生產成本，也相當于變相提高產能。
相比之下，DUV光刻機生產7nm工藝芯片步驟繁瑣，液浸式DUV光刻機需要多次曝光才能達到7nm效果，而每一次曝光都會使產品生產成本大幅提升，良品率也會快速下降。
據悉，ASML目前最先進的EUV(極紫外光)光刻機可生產5nm芯片，iPhone 12所搭載的A14芯片也需要在ASML EUV光刻機支持下生產。
ASML中國展示DUV光刻機：對向中國出口光刻機保持開放態度
深紫外光(DUV)，KrF 準分子激光：248 nm， ArF 準分子激光：193 nm;極紫外光(EUV)，10 ~ 15 nm
關鍵詞：
責任編輯：Rex_07
